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首頁產品與應用/晶圓電鍍
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鍍錫凸塊 Pillar

晶圓鍍銅柱Pillar:專為鍍銅柱工藝設計,工藝流程簡單,產品性能穩定。
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產品描述

鍍錫凸塊Pillar:專為銅柱上鍍錫凸塊工藝設計,電流密度大,沉積速率高,且凸塊均一。


鍍錫凸塊 Pillar-1.jpg


操作條件

參 數 

范 圍 

最 佳 值

錫濃度

45   – 55 g/L 

50 g/L

酸濃度

80 - 120 g/L 

100 g/L

溫度 

40 – 60 ℃

50 ℃

REM-3000 A劑

80 – 120 ml 

100 ml

REM-3000 B劑

4 – 6 ml 

5 ml

溶液攪動 

強力攪動

電流密度

 5 - 50 ASD 

30 ASD